MARC

 008250123s2024        us                              c    eng  d
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■1001  ▼aChanna,  Sanyum.
■24510▼aEngineering  Novel  Magnetic  Insulators  for  Energy  Efficient  Devices
■260    ▼a[Sl]▼bStanford  University▼c2024
■260  1▼aAnn  Arbor▼bProQuest  Dissertations  &  Theses▼c2024
■300    ▼a262  p
■500    ▼aSource:  Dissertations  Abstracts  International,  Volume:  86-05,  Section:  B.
■500    ▼aAdvisor:  Suzuki,  Yuri.
■5021  ▼aThesis  (Ph.D.)--Stanford  University,  2024.
■520    ▼aThis  chapter  covers  several  experimental  techniques  used  to  fabricate  and  characterize  the  films  in  this  dissertation.  Section  2.2  begins  with  an  overview  of  the  various  thin  film  deposition  techniques  -  pulsed  laser  deposition,  sputtering  and  electron  beam  evaporation  -  used  to  grow  the  films  and  multilayers  that  form  the  basis  of  this  thesis.  Section  2.3  covers  the  fabrication  techniques  -  photolithography,  argon  ion  milling  and  oxygen  plasma  ashing  -  used  to  create  complex  micro-structures  for  studying  various  spin-based  phenomena.  Section  2.4  briefly  describes  all  the  physical  characterization  tools  -  atomic  force  microscopy,  X-ray  diffraction  and  reflectivity,  and  scanning  transmission  electron  microscopy  -  used  to  quantify  the  crystalline  quality  and  other  relevant  physical  properties  of  our  films.  Section  2.5  delves  into  the  techniques  that  help  quantify  both  static  and  dynamic  magnetic  properties  of  our  magnetic  films,  namely  SQUID  magnetometry  and  ferromagnetc  resonance  respectively.  In  this  section,  I  also  discuss  X-ray  absorption  spectroscopy,  a  technique  that  allows  for  an  element-specific  study  of  a  system's  magnetization.  Additionally,  I  discuss  magnetic  force  microscopy,  a  cousin  to  atomic  force  microscopy,  that  provides  a  surface  sensitive  probe  into  the  magnetic  textures  in  a  system.  Finally,  in  Section  2.6,  I  briefly  describe  the  various  instrumentation  that  enable  electrical  transport  measurements.  The  brief  overview  of  techniques  in  this  chapter  forms  a  basis  in  understanding  later  results.  More  detailed  background  into  each  characterization  technique  will  be  introduced  as  needed  in  their  respective  chapters.2.2  Thin  Film  DepositionA  variety  of  thin  film  deposition  techniques  have  been  developed  to  grow  different  types  of  materials  since  there  is  no  single  all-encompassing  technique.  In  this  section,  we  discuss  3  such  techniques  -  sputtering,  electron  beam  evaporation  and  pulsed  laser  deposition.  Sputtering  works  very  well  for  depositing  high  quality  films  of  most  metals  and  some  dielectrics.  Electron  beam  evaporation  is  well  suited  for  depositing  metals  with  high  melting  points  since  it  significantly  heats  up  the  target  surface.  Pulsed  laser  deposition  however  does  not  work  well  for  metals  since  they  have  a  high  surface  reflectivity;  conversely,  insulators  readily  absorb  the  laser  energy  and  ablate  making  this  a  great  technique  for  the  stoichiometric  deposition  of  complex  oxides.2.2.1  Pulsed  Laser  DepositionLAFO  films  were  grown  using  pulsed  laser  deposition  (PLD)  in  a  home-built  PLD  chamber.  PLD  is  an  experimental  technique  used  for  the  stoichiometric  transfer  of  material  from  a  solid  source  onto  a  substrate.  This  technique  has  been  reported  in  literature  as  early  as  1965,  and  since  then  has  been  used  extensively  for  growing  complex  oxide  films,  interfaces,  and  heterostructures  [1].A  schematic  of  the  PLD  chamber  is  shown  in  Figure  2.1.  A  pressed  ceramic  target  made  of  the  material  to  be  grown  is  attached  onto  a  rotating  target  holder.  The  substrate  is  mounted  onto  a  heater  at  the  opposing  end  using  silver  paste.  Afterwards,  the  chamber  is  pumped  down  to  a  base  pressure  of  10−7torr.  To  initiate  the  deposition,  a  KrF  (248  nm)  excimer  laser  (Coherent  LPXpro)  with  20  ns  pulses  ablates  the  target  at  a  frequency  of  a  few  Hz  as  the  target  rotates.  The  laser  pulse  thermalizes  the  species  at  the  target  surface,  launching  them  outwards  in  the  form  of  a  plasma  plume  towards  the  substrate.
■590    ▼aSchool  code:  0212.
■650  4▼aInterferometry
■650  4▼aSpectrum  analysis
■650  4▼aElectromagnetism
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■71020▼aStanford  University.
■7730  ▼tDissertations  Abstracts  International▼g86-05B.
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■792    ▼a2024
■793    ▼aEnglish
■85640▼uhttp://www.riss.kr/pdu/ddodLink.do?id=T17164810▼nKERIS▼z이  자료의  원문은  한국교육학술정보원에서  제공합니다.

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