MARC

 008260126s2023        us                              c    eng  d
■001000017360000
■00520260202105249
■006m          o    d                
■007cr#unu||||||||
■020    ▼a9798291578070
■035    ▼a(MiAaPQ)AAI32272180
■035    ▼a(MiAaPQ)httphdlhandlenet2142121939
■040    ▼aMiAaPQ▼cMiAaPQ
■0820  ▼a620.11
■1001  ▼aMichaels,  Julian  Arthur.
■24510▼aEtching  for  Quantum-Ready  Surfaces
■260    ▼a[Sl]▼bUniversity  of  Illinois  at  Urbana-Champaign▼c2023
■260  1▼aAnn  Arbor▼bProQuest  Dissertations  &  Theses▼c2023
■300    ▼a122  p
■500    ▼aSource:  Dissertations  Abstracts  International,  Volume:  87-03,  Section:  B.
■500    ▼aAdvisor:  Eden,  J.  Gary;Li,  Xiuling.
■5021  ▼aThesis  (Ph.D.)--University  of  Illinois  at  Urbana-Champaign,  2023.
■520    ▼aThe  burgeoning  field  of  quantum  mechanical  devices  is  impeded  by  the  lossy  nature  of  its  underlying  physical  systems.  Such  devices  are  pristine  in  conception  but  not  in  physical  realization.  Unlike  classical  devices,  quantum  devices  that  rely  on  individual  particles  cannot  tolerate  loss.  Fabrication  techniques  are  imperfect  in  this  regard  and  are  a  major  barrier  to  quantum  supremacy.This  thesis  seeks  to  improve  the  fabrication  methodology  for  etching  a  few  pertinent  quantum  materials:  4H-SiC,  diamond,  and  CeO2.  The  former  sees  development  in  metal-assisted  chemical  etching  (MacEtch)  and  all  three  gain  plasma-based  anisotropic  atomic  layer  etching  (ALE)  recipes.  Moreover,  the  field  of  ALE  is  expanded  with  a  novel  approach  to  ALE,  called  bias-pulsed  atomic  layer  etching  (BP-ALE)  that  vastly  speeds  the  etch  rate  while  maintaining  the  inimitable  precision  of  ALE.  Subangstrom  RMS  surface  roughness  was  observed  in  both  4H-SiC  and  diamond  confirmed  with  several  atomic  force  microscopy  (AFM)  scans.
■590    ▼aSchool  code:  0090.
■650  4▼aMaterials  science
■650  4▼aPlasma  physics
■650  4▼aElectrical  engineering
■650  4▼aQuantum  physics
■653    ▼aQuantum  mechanical  devices
■653    ▼aAtomic  layer  etching
■653    ▼aNanotechnology
■653    ▼aPlasma  etching
■653    ▼aAtomic  force  microscopy
■653    ▼aWet  etching
■653    ▼aQuantum  devices
■690    ▼a0544
■690    ▼a0794
■690    ▼a0759
■690    ▼a0599
■71020▼aUniversity  of  Illinois  at  Urbana-Champaign▼bElectrical  &  Computer  Eng.
■7730  ▼tDissertations  Abstracts  International▼g87-03B.
■790    ▼a0090
■791    ▼aPh.D.
■792    ▼a2023
■793    ▼aEnglish
■85640▼uhttp://www.riss.kr/pdu/ddodLink.do?id=T17360000▼nKERIS▼z이  자료의  원문은  한국교육학술정보원에서  제공합니다.

Preview

Export

ChatGPT Discussion

AI Recommended Related Books